檢測(cè)原理

探傷機(jī)陣列渦流檢測(cè)原理陣列渦流技術(shù)與傳統(tǒng)渦流技術(shù)具有相同的檢測(cè)將通人交變電流的激勵(lì)線圈放置在導(dǎo)電部件一時(shí)，導(dǎo)體表面會(huì)產(chǎn)生渦流，導(dǎo)體中的缺陷會(huì)干擾渦流路徑，這種干擾可以通過檢測(cè)線圈來測(cè)量，進(jìn)而判磁粉探傷機(jī)

斷出缺陷的情況”。陣列渦流探頭具有多個(gè)獨(dú)立工作的線圈,這些線圈按照特殊的方式排布，激勵(lì)線圈和檢測(cè)線圈之間形成兩種方向相互垂直的電磁場(chǎng)傳遞方式，可減少因缺陷方向造成的漏檢,并且可實(shí)現(xiàn)一次性大面積掃查,得到C掃描成像結(jié)果。為了保

證激勵(lì)磁場(chǎng)和感應(yīng)磁場(chǎng)之間不相互干擾，陣列渦流技術(shù)通常采用多路切換技術(shù)對(duì)感應(yīng)線圈進(jìn)行分時(shí)分批激勵(lì)。陣列渦流檢測(cè)的結(jié)果通常以C掃描顯示為主,同時(shí)生成阻抗圖和帶狀圖,通過不同的顏色顯示來判斷缺陷的情況[3]。

1.2全聚焦相控陣檢測(cè)原理 

全聚焦相控陣檢測(cè)過程主要包括兩個(gè)部分:全

矩陣數(shù)據(jù)采集(FMC)和全聚焦成像算法。

全矩陣數(shù)據(jù)采集原理為假定相控陣探頭具有n

個(gè)陣元，激發(fā)第一個(gè)陣 元，所有陣元接收回波信號(hào)并

儲(chǔ)存,按照此規(guī)律，依次激發(fā)所有陣元，最后采集得

到nXn個(gè)時(shí)域超聲回波信號(hào)，因?yàn)楸徊杉瘮?shù)據(jù)存

儲(chǔ)在一個(gè)n行n列的矩陣中，所以稱之為全矩陣數(shù)試驗(yàn)采用64 晶片，頻據(jù)采集[4]。

全聚焦成像算法原理為針對(duì)所檢區(qū)域設(shè)定

個(gè)自定義成像區(qū),得到任意一- 點(diǎn)到任意一對(duì)品片

組合的聲程，再以成像區(qū)中的聲程數(shù)據(jù)為依據(jù)，對(duì)

FMC數(shù)據(jù)進(jìn)行相干疊加處理,獲得表征該點(diǎn)信息

的幅值。采用該算法得到自定義成像區(qū)內(nèi)每點(diǎn)的

成像，最終達(dá)到各點(diǎn)能量高度聚焦的效果”。